本月初，中國福建省高級人民法院同意了中微針對維易科精密儀器國際貿(mào)易（上海）有限公司（以下簡稱“Veeco上海”）的禁令申請，該禁令禁止Veeco上海進(jìn)口、制造、向任何第三方銷售或許諾銷售侵犯中微第CN202492576號專利的任何化學(xué)氣相沉積裝置和用于該等裝置的基片托盤。該禁令立即生效執(zhí)行，不可上訴。此消息一出，國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)無不歡欣雀躍，就等著接下來的判賠了。

    本案到底是關(guān)于什么？為何一紙禁令就會有如此重大的反響？想搞清楚這些問題的答案，就必須從半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)說起。

    最近幾年，每年中國半導(dǎo)體芯片的進(jìn)口額會超過2000億美元，超過原油進(jìn)口額，為進(jìn)口商品排名的第*。中國是制造業(yè)大國，為何造不出指甲蓋大小的半導(dǎo)體芯片？事實上，上個世紀(jì)50年代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)剛剛興起的時候，各個國家處在相同的起跑線上。但是，在產(chǎn)業(yè)的起步階段，八國聯(lián)軍搞了個“多國出口管制協(xié)調(diào)委員會”（COCOM），對我國所需的新技術(shù)、新設(shè)備進(jìn)行封鎖禁運；在上世紀(jì)90年代初COCOM解體后，又簽訂了“瓦圣那協(xié)議”，繼續(xù)對我國新興技術(shù)和新興產(chǎn)業(yè)進(jìn)行封鎖限制，只允許放行比經(jīng)濟發(fā)達(dá)國家滯后兩代的集成電路技術(shù)和設(shè)備。沒有先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，制造先進(jìn)的產(chǎn)品無異于癡人說夢，因此我國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直落后國際先進(jìn)水平兩代左右，時至今日，依然如此。

    如果想改變現(xiàn)狀，只有兩個方法，一是讓列強廢除禁運協(xié)議，但這無異于與虎謀皮；另外一種方法就是自強。此次大戰(zhàn)的中方代表中微半導(dǎo)體就是自強以求發(fā)展的典型代表。

    半導(dǎo)體照明領(lǐng)域，制造設(shè)備一直被兩家公司所壟斷：德國的Aixtron和美國的Veeco。生產(chǎn)照明芯片，必須把一種很神奇的化合物半導(dǎo)體材料GaN沉積在藍(lán)寶石晶體的表面。沉積條件極為苛刻，溫度需要達(dá)到1000度，并且藍(lán)寶石還需要不停的旋轉(zhuǎn)，才能保證沉積厚度的均勻性。因此，既能旋轉(zhuǎn)又能耐高溫的托盤是制造GaN晶體的裝備的核心部件。此部件，就是本案中的專利的核心保護內(nèi)容。

    Veeco是本領(lǐng)域當(dāng)之無愧的老大，作為00后的小小中微半導(dǎo)體何德何能敢于跟老大叫板？筆者妄加揣測一下，在主場跟國外選手打一場，以小博大，贏了，能以世界先進(jìn)技術(shù)的名義借機擴大市場份額；輸了，賺個人氣。現(xiàn)在這年月，去法院告巨頭再拉上幾個記者，還有比這出名更快的方法嗎？！

    言歸正傳，還是先看看案件。事實上，早在2017年的7月，中微即向福建高院起訴Veeco。接到傳票的時候，想必Veeco先是一驚，然后一笑：“不知好歹的家伙，一個破爛實用新型專利居然都好意思拿出來鬧”。經(jīng)驗豐富的Veeco采用了最常規(guī)的應(yīng)對手段，去專利復(fù)審委提專利無效。按照法院審理專利侵權(quán)案件的程序，被告提實用新型專利無效，案件會中止審理，等復(fù)審委的決定：如果專利被無效，侵權(quán)案子也沒必要繼續(xù)審了；如果專利權(quán)被維持，則繼續(xù)審理。

    實用新型專利實行初步審查制度，如果沒有發(fā)現(xiàn)駁回理由的話，會被授予專利權(quán)。從專利局官方渠道查詢的結(jié)果來看，中微的實用新型專利，從來沒有被別人挑戰(zhàn)過。此番Veeco已經(jīng)出手，刀出鞘必見血，看來這個專利兇多吉少。

    三個月后，復(fù)審委終于發(fā)出公告：在中微做了少許修改后，專利權(quán)被維持了。此決定一出，第*個蒙圈的必然是Veeco。怎么可能呢？Veeco居然連一個實用新型專利都沒能廢掉？

    作為廣大吃瓜群眾中為數(shù)不多的即懂技術(shù)又懂專利法的一個，筆者調(diào)出了復(fù)審委的決定書和專利文本，慢鏡頭回放，用專業(yè)眼光圍觀一下Veeco是如何在小河溝里翻船的。

    首先，我們來看看涉案專利的內(nèi)容。

    CN202492576號實用新型專利主題雖然是生長設(shè)備，實質(zhì)上是關(guān)于一個藍(lán)寶石晶體托盤和支撐托盤的旋轉(zhuǎn)軸。現(xiàn)有技術(shù)中，旋轉(zhuǎn)軸帶動托盤運動有兩種方式：摩擦傳動或者接觸傳動。這兩種傳動方式都有問題：摩擦傳動在加速減速過程中，托盤會在轉(zhuǎn)軸上會打滑，影響測量位置的準(zhǔn)確性；接觸傳動如果安裝時候調(diào)校不準(zhǔn)，托盤會一直保持偏離的轉(zhuǎn)動狀態(tài)，無法自調(diào)整。中微半導(dǎo)體的工程師們想出了一個辦法，把兩種傳動方式結(jié)合起來，同時克服兩種傳動方式的缺點。下圖即本專利的其中一個示意圖。

    從上圖可以看出，本發(fā)明的方案是把摩擦傳動和接觸傳動相結(jié)合。轉(zhuǎn)軸和托盤在120位置是直接接觸的，轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的時候，120位置提供的摩擦力帶動托盤轉(zhuǎn)動（摩擦傳動）。在加速減速的過程中，突出部21和凹陷部210相配合，避免打滑，實現(xiàn)兩個部件的同步。如果突出部21高度太高，在21和210接觸的時候，120位置轉(zhuǎn)軸和托盤尚未接觸，則本方案就還原成純接觸傳動；如果不設(shè)置突出部21或者突出部太矮，則本方案還原成純摩擦傳動。由此可以看出來，中微的技術(shù)人員在設(shè)計將兩種方案結(jié)合的過程中，似乎也沒花太多的心思。取長補短，連小孩都知道的事，更別說成年人了。估計發(fā)明人心里也門清，去申請發(fā)明專利的話，沒希望既浪費時間又浪費錢，還不如申請一個實用新型來的方便，肯定能授權(quán)。

    為了說明問題方便，以下只討論獨立權(quán)利要求1。獨立權(quán)利要求1是整個專利的基礎(chǔ)。

    最初的獨立權(quán)利要求1內(nèi)容如下：

    1.一種化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于：包括：

    處理腔室，其內(nèi)部包括一個旋轉(zhuǎn)軸，旋轉(zhuǎn)軸上可分離地放置有基片托盤，基片托盤的下表面包括一凹槽，所述旋轉(zhuǎn)軸包括一頂部，所述頂部可分離地插接于所述凹槽內(nèi)，所述基片托盤至少部分地受所述頂部支撐并通過二者之間的摩擦力使所述基片托盤圍繞所述旋轉(zhuǎn)軸的中心軸線轉(zhuǎn)動；

    所述旋轉(zhuǎn)軸頂部與基片托盤上還包括一個同步運動配合結(jié)構(gòu)，所述同步運動配合結(jié)構(gòu)包括一個突出部和一個與之對應(yīng)配合連接的凹陷部，所述突出部和所述凹陷部分別設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸的頂部和所述基片托盤的下表面上或相反設(shè)置；

    其中，當(dāng)所述基片托盤受其與所述頂部之間的摩擦力驅(qū)動而圍繞所述旋轉(zhuǎn)軸的中心軸線轉(zhuǎn)動時，所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盤和所述旋轉(zhuǎn)軸同步轉(zhuǎn)動。

    在Veeco提交了證據(jù)之后，中微對獨立權(quán)利要求1做了修改，如下：

    1.一種化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于：包括：

    處理腔室，其內(nèi)部包括一個旋轉(zhuǎn)軸，旋轉(zhuǎn)軸上可分離地放置有基片托盤，基片托盤的下表面包括一凹槽，所述旋轉(zhuǎn)軸包括一頂部，所述頂部可分離地插接于所述凹槽內(nèi)，所述基片托盤至少部分地受所述頂部支撐并通過二者之間的摩擦力使所述基片托盤圍繞所述旋轉(zhuǎn)軸的中心軸線轉(zhuǎn)動；

    所述旋轉(zhuǎn)軸頂部與基片托盤上還包括一個同步運動配合結(jié)構(gòu)，所述同步運動配合結(jié)構(gòu)包括一個突出部和一個與之對應(yīng)配合連接的凹陷部，所述突出部和所述凹陷部分別設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)軸的頂部和所述基片托盤的下表面上或相反設(shè)置；

    其中，當(dāng)所述基片托盤受其與所述頂部之間的摩擦力驅(qū)動而圍繞所述旋轉(zhuǎn)軸的中心軸線轉(zhuǎn)動時，所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盤和所述旋轉(zhuǎn)軸同步轉(zhuǎn)動；

    所述旋轉(zhuǎn)軸的頂部包括一連接頭，所述連接頭包括一上表面和位于所述上表面下方的一外周面，所述突出部設(shè)置于所述連接頭的上表面上或所述外周面上。

    中微在修改權(quán)利要求時候并不是直接加上了標(biāo)藍(lán)色的這句話，無效中修改權(quán)利要求不允許加內(nèi)容。實際上，中微是將原獨權(quán)1刪除，保留了從權(quán)2，這樣從權(quán)2就變成了獨權(quán)1。此種對權(quán)利要求的修改方式是在無效程序中準(zhǔn)許的修改方式之一。

    Veeco對中微的修改方式無異議，但繼續(xù)以獨權(quán)1權(quán)少必要技術(shù)特征、說明書不支持、無新穎性、無創(chuàng)造性的理由申請無效。

    我們接下來就結(jié)合復(fù)審決定書來分析一下，看看這幾個理由是否充分，是否能說服復(fù)審委。

    1.權(quán)利要求1缺少必要技術(shù)特征。Veeco認(rèn)為，本專利要解決的技術(shù)問題之一是實現(xiàn)旋轉(zhuǎn)過程中基片托盤的自平衡，為了解決該問題，本專利至少采用了兩個技術(shù)手段，即在旋轉(zhuǎn)軸的連接頭和基片托盤的接觸區(qū)域下方存在足夠的間隙S1，以及在突出部和凹陷部之間存在間隙S2并且該間隙不小于0.01mm、小于5mm。但本專利獨立權(quán)利要求1-3和10中并沒有記載上述技術(shù)特征，因此不能解決自平衡的技術(shù)問題，不符合專利法實施細(xì)則第20條第2款的規(guī)定。Veeco的觀點集中在連接頭和接觸區(qū)域的間隙的問題，即上圖中筆者描紅的部分。但是合議組的看法是“根據(jù)說明書第0036段的記載，如果間隙S2設(shè)計得太小，會由于熱脹冷縮導(dǎo)致基片托盤無法取出，而設(shè)計得太大又不能防止主軸和基片托盤發(fā)生相對運動。因此，間隙S2的設(shè)計目的并非用于實現(xiàn)自平衡，而且本領(lǐng)域技術(shù)人員也通常會選取間隙S2存在的技術(shù)手段。因此，請求人關(guān)于獨立權(quán)利要求1-3和10缺少必要技術(shù)特征、不符合專利法實施細(xì)則第20條第2款規(guī)定的理由不能成立。”。中微修改之后的權(quán)利要求1描述的技術(shù)方案中，并未對兩個部件的間隙作出描述。如上文筆者的討論，技術(shù)方案實質(zhì)上是摩擦傳動和接觸傳動相結(jié)合，在突出部過高的情況下，如果和凹陷部提前接觸，就轉(zhuǎn)化成純接觸傳動；如果突出部過低，低于圖中藍(lán)色線所示的平面，就轉(zhuǎn)化成了純摩擦傳動。在突出部和凹陷部之間存在間隙，此間隙既包含水平方向的間隙，又包含垂直方向的間隙，間隙的作用并不僅僅是為了防止熱脹冷縮，也涉及了自平衡的問題。因此，對于獨權(quán)1的技術(shù)方案，突出部和凹陷部的間隙屬于必要技術(shù)特征。筆者認(rèn)為，Veeco這個理由找的還是很準(zhǔn)確的，但是存在一點點瑕疵，對于水平間隙和垂直間隙沒有做出區(qū)別論述。對復(fù)審委的意見，筆者持保留態(tài)度。

    2.  關(guān)于“說明書支持”。《專利審查指南》中對“說明書支持”的表述為“如果權(quán)利要求的概括使所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員有理由懷疑該上位概括或并列概括所包含的一種或多種下位概念或選擇方式不能解決發(fā)明或者實用新型所要解決的技術(shù)問題，并達(dá)到相同的技術(shù)效果，則應(yīng)當(dāng)認(rèn)為該權(quán)利要求沒有得到說明書的支持。”Veeco認(rèn)為：權(quán)利要求1中包含了旋轉(zhuǎn)軸連接頭和基片托盤接觸區(qū)域下方以及突出部與凹陷部之間不存在間隙的技術(shù)方案，該方案無法解決本專利所要解決的自平衡的技術(shù)問題，因此得不到說明書支持。對此，合議組認(rèn)為：“如前所述，旋轉(zhuǎn)軸連接頭和基片托盤接觸區(qū)下方的間隙屬于優(yōu)選方案，該間隙的存在與否并不影響基片托盤自平衡的實現(xiàn)；突出部和凹陷部之間的間隙只是為了防止由于熱脹冷縮導(dǎo)致基片托盤無法取出，并不涉及旋轉(zhuǎn)過程中基片托盤的自平衡問題，因此不會導(dǎo)致權(quán)利要求得不到說明書的支持”。根據(jù)上文關(guān)于必要技術(shù)特征部分的討論，筆者認(rèn)為Veeco的理由還是與必要技術(shù)特征的關(guān)系更密切。

    3.  關(guān)于新穎性，Veeco一口氣搬出來三個證據(jù)，但是權(quán)利要求與這三個證據(jù)相比，均具有區(qū)別技術(shù)特征。在實用新型專利的復(fù)審程序中，評價新穎性的標(biāo)準(zhǔn)與發(fā)明專利實質(zhì)審查時候的新穎性評價標(biāo)準(zhǔn)沒有任何區(qū)別。因此，Veeco提供的證據(jù)無法破壞獨權(quán)1的新穎性。復(fù)審委的意見正確。

    4.  關(guān)于創(chuàng)造性，這里首先要介紹實用新型專利無效中創(chuàng)造性的審查標(biāo)準(zhǔn)，然后以此標(biāo)準(zhǔn)考察Veeco的方案。

    《專利審查指南》中規(guī)定如下：發(fā)明的創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進(jìn)步；實用新型的創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該實用新型具有實質(zhì)性特點和進(jìn)步。因此，實用新型專利創(chuàng)造性的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)當(dāng)?shù)陀诎l(fā)明專利創(chuàng)造性的標(biāo)準(zhǔn)。

    （１）現(xiàn)有技術(shù)的領(lǐng)域

    對于發(fā)明專利而言，不僅要考慮該發(fā)明專利所屬的技術(shù)領(lǐng)域，還要考慮其相近或者相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，以及該發(fā)明所要解決的技術(shù)問題能夠促使本領(lǐng)域的技術(shù)人員到其中去尋找技術(shù)手段的其他技術(shù)領(lǐng)域。對于實用新型專利而言，一般著重于考慮該實用新型專利所屬的技術(shù)領(lǐng)域。但是現(xiàn)有技術(shù)中給出明確的啟示，例如現(xiàn)有技術(shù)中有明確的記載，促使本領(lǐng)域的技術(shù)人員到相近或者相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域?qū)ふ矣嘘P(guān)技術(shù)手段的，可以考慮其相近或者相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域。

    （２）現(xiàn)有技術(shù)的數(shù)量

    對于發(fā)明專利而言，可以引用一項、兩項或者多項現(xiàn)有技術(shù)評價其創(chuàng)造性。對于實用新型專利而言，一般情況下可以引用一項或者兩項現(xiàn)有技術(shù)評價其創(chuàng)造性，對于由現(xiàn)有技術(shù)通過“簡單的疊加”而成的實用新型專利，可以根據(jù)情況引用多項現(xiàn)有技術(shù)評價其創(chuàng)造性。

    本無效案件中，Veeco選取了四組結(jié)合證據(jù)來進(jìn)行評價。復(fù)審委的結(jié)論是“……上述證據(jù)中各裝置的作用均是通過接觸作用力保持主軸和托盤同步運動，接觸作用力在托盤的運動過程中必須時刻發(fā)揮作用，托盤和主軸之間不再需要摩擦力作用，因此這些裝置均為接觸傳動裝置；而本專利的同步運動配合結(jié)構(gòu)其目的僅在于確保主軸和托盤不發(fā)生相對轉(zhuǎn)動，在托盤隨主軸的運動過程中，主要由摩擦傳動發(fā)揮作用，因此本專利的同步運動配合結(jié)構(gòu)并不屬于接觸傳動裝置，因此上述證據(jù)也無法給出將摩擦傳動與同步運動配合結(jié)構(gòu)相結(jié)合的技術(shù)啟示。此外，目前也沒有證據(jù)顯示這種結(jié)合方式是本領(lǐng)域的公知常識。因此，請求人關(guān)于權(quán)利要求1相對于證據(jù)1與證據(jù)2的結(jié)合、證據(jù)1與證據(jù)6的結(jié)合、證據(jù)4與證據(jù)6的結(jié)合或者證據(jù)6與公知常識的結(jié)合不具備創(chuàng)造性的理由均不能成立。……”如前文所述，本專利的發(fā)明點實質(zhì)上是“摩擦傳動和接觸傳動相結(jié)合”。此種結(jié)合方式在MOCVD領(lǐng)域很大可能性是中微的獨創(chuàng)；在其他機械領(lǐng)域是否已經(jīng)存在，筆者不敢妄言。但是，根據(jù)實用新型專利無效過程中創(chuàng)造性的審查標(biāo)準(zhǔn)，即使在其他領(lǐng)域有類似應(yīng)用，只有滿足了“現(xiàn)有技術(shù)給出明確的技術(shù)啟示的情況下”，才能作為證據(jù)使用；否則，很有可能不被復(fù)審委所接受。Veeco在選擇對比文件的時候，可供選擇的對比文件實質(zhì)上是受到了極大的限制。

    因此，實用新型專利看起來容易被無效，實際操作起來難度比起發(fā)明有過之而無不及。

    簡要結(jié)論和啟示：

    （1）Veeco選擇的無效策略沒有太大的問題，復(fù)審委做出的“權(quán)利要求不缺乏必要技術(shù)特征、以說明書為依據(jù)”的結(jié)論欠妥，Veeco尚有去知識產(chǎn)權(quán)法院挑戰(zhàn)復(fù)審委的余地。

    （2）實用新型專利授權(quán)容易，在無效程序中又能夠享受到比發(fā)明專利更多的優(yōu)待。對于迭代速度快的產(chǎn)品來說，使用實用新型專利來進(jìn)行保護也是一個非常好的選擇。

    （3）中國企業(yè)的原始創(chuàng)新的研發(fā)成果不容小覷，Veeco在實施與本專利相同技術(shù)前，專利技術(shù)盡職調(diào)查工作未做足，才造成如此嚴(yán)重后果。

    （4）面對技術(shù)抄襲者，即使對方是國際巨頭，哪怕武器僅僅是一個實用新型專利，也應(yīng)當(dāng)勇敢的去維權(quán)。萬一，說的是萬一，實用新型專利沒有被無效呢？

責(zé)編：樹懶