專利戰不可怕！圍觀中微半導體和Vecco專利戰

    本月初，中國福建省高級人民法院同意了中微針對維易科精密儀器國際貿易（上海）有限公司（以下簡稱“Veeco上海”）的禁令申請，該禁令禁止Veeco上海進口、制造、向任何第三方銷售或許諾銷售侵犯中微第CN202492576號專利的任何化學氣相沉積裝置和用于該等裝置的基片托盤。該禁令立即生效執行，不可上訴。此消息一出，國內半導體行業無不歡欣雀躍，就等著接下來的判賠了。

    本案到底是關于什么？為何一紙禁令就會有如此重大的反響？想搞清楚這些問題的答案，就必須從半導體產業說起。

    最近幾年，每年中國半導體芯片的進口額會超過2000億美元，超過原油進口額，為進口商品排名的第*。中國是制造業大國，為何造不出指甲蓋大小的半導體芯片？事實上，上個世紀50年代半導體產業剛剛興起的時候，各個國家處在相同的起跑線上。但是，在產業的起步階段，八國聯軍搞了個“多國出口管制協調委員會”（COCOM），對我國所需的新技術、新設備進行封鎖禁運；在上世紀90年代初COCOM解體后，又簽訂了“瓦圣那協議”，繼續對我國新興技術和新興產業進行封鎖限制，只允許放行比經濟發達國家滯后兩代的集成電路技術和設備。沒有先進的生產設備，制造先進的產品無異于癡人說夢，因此我國的半導體產業一直落后國際先進水平兩代左右，時至今日，依然如此。

    如果想改變現狀，只有兩個方法，一是讓列強廢除禁運協議，但這無異于與虎謀皮；另外一種方法就是自強。此次大戰的中方代表中微半導體就是自強以求發展的典型代表。

    半導體照明領域，制造設備一直被兩家公司所壟斷：德國的Aixtron和美國的Veeco。生產照明芯片，必須把一種很神奇的化合物半導體材料GaN沉積在藍寶石晶體的表面。沉積條件極為苛刻，溫度需要達到1000度，并且藍寶石還需要不停的旋轉，才能保證沉積厚度的均勻性。因此，既能旋轉又能耐高溫的托盤是制造GaN晶體的裝備的核心部件。此部件，就是本案中的專利的核心保護內容。

    Veeco是本領域當之無愧的老大，作為00后的小小中微半導體何德何能敢于跟老大叫板？筆者妄加揣測一下，在主場跟國外選手打一場，以小博大，贏了，能以世界先進技術的名義借機擴大市場份額；輸了，賺個人氣。現在這年月，去法院告巨頭再拉上幾個記者，還有比這出名更快的方法嗎？！

    言歸正傳，還是先看看案件。事實上，早在2017年的7月，中微即向福建高院起訴Veeco。接到傳票的時候，想必Veeco先是一驚，然后一笑：“不知好歹的家伙，一個破爛實用新型專利居然都好意思拿出來鬧”。經驗豐富的Veeco采用了最常規的應對手段，去專利復審委提專利無效。按照法院審理專利侵權案件的程序，被告提實用新型專利無效，案件會中止審理，等復審委的決定：如果專利被無效，侵權案子也沒必要繼續審了；如果專利權被維持，則繼續審理。

    實用新型專利實行初步審查制度，如果沒有發現駁回理由的話，會被授予專利權。從專利局官方渠道查詢的結果來看，中微的實用新型專利，從來沒有被別人挑戰過。此番Veeco已經出手，刀出鞘必見血，看來這個專利兇多吉少。

    三個月后，復審委終于發出公告：在中微做了少許修改后，專利權被維持了。此決定一出，第*個蒙圈的必然是Veeco。怎么可能呢？Veeco居然連一個實用新型專利都沒能廢掉？

    作為廣大吃瓜群眾中為數不多的即懂技術又懂專利法的一個，筆者調出了復審委的決定書和專利文本，慢鏡頭回放，用專業眼光圍觀一下Veeco是如何在小河溝里翻船的。

    首先，我們來看看涉案專利的內容。

    CN202492576號實用新型專利主題雖然是生長設備，實質上是關于一個藍寶石晶體托盤和支撐托盤的旋轉軸。現有技術中，旋轉軸帶動托盤運動有兩種方式：摩擦傳動或者接觸傳動。這兩種傳動方式都有問題：摩擦傳動在加速減速過程中，托盤會在轉軸上會打滑，影響測量位置的準確性；接觸傳動如果安裝時候調校不準，托盤會一直保持偏離的轉動狀態，無法自調整。中微半導體的工程師們想出了一個辦法，把兩種傳動方式結合起來，同時克服兩種傳動方式的缺點。下圖即本專利的其中一個示意圖。

    從上圖可以看出，本發明的方案是把摩擦傳動和接觸傳動相結合。轉軸和托盤在120位置是直接接觸的，轉軸轉動的時候，120位置提供的摩擦力帶動托盤轉動（摩擦傳動）。在加速減速的過程中，突出部21和凹陷部210相配合，避免打滑，實現兩個部件的同步。如果突出部21高度太高，在21和210接觸的時候，120位置轉軸和托盤尚未接觸，則本方案就還原成純接觸傳動；如果不設置突出部21或者突出部太矮，則本方案還原成純摩擦傳動。由此可以看出來，中微的技術人員在設計將兩種方案結合的過程中，似乎也沒花太多的心思。取長補短，連小孩都知道的事，更別說成年人了。估計發明人心里也門清，去申請發明專利的話，沒希望既浪費時間又浪費錢，還不如申請一個實用新型來的方便，肯定能授權。

    為了說明問題方便，以下只討論獨立權利要求1。獨立權利要求1是整個專利的基礎。

    最初的獨立權利要求1內容如下：

    1.一種化學氣相沉積裝置，其特征在于：包括：

    處理腔室，其內部包括一個旋轉軸，旋轉軸上可分離地放置有基片托盤，基片托盤的下表面包括一凹槽，所述旋轉軸包括一頂部，所述頂部可分離地插接于所述凹槽內，所述基片托盤至少部分地受所述頂部支撐并通過二者之間的摩擦力使所述基片托盤圍繞所述旋轉軸的中心軸線轉動；

    所述旋轉軸頂部與基片托盤上還包括一個同步運動配合結構，所述同步運動配合結構包括一個突出部和一個與之對應配合連接的凹陷部，所述突出部和所述凹陷部分別設置在所述旋轉軸的頂部和所述基片托盤的下表面上或相反設置；

    其中，當所述基片托盤受其與所述頂部之間的摩擦力驅動而圍繞所述旋轉軸的中心軸線轉動時，所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盤和所述旋轉軸同步轉動。

    在Veeco提交了證據之后，中微對獨立權利要求1做了修改，如下：

    1.一種化學氣相沉積裝置，其特征在于：包括：

    處理腔室，其內部包括一個旋轉軸，旋轉軸上可分離地放置有基片托盤，基片托盤的下表面包括一凹槽，所述旋轉軸包括一頂部，所述頂部可分離地插接于所述凹槽內，所述基片托盤至少部分地受所述頂部支撐并通過二者之間的摩擦力使所述基片托盤圍繞所述旋轉軸的中心軸線轉動；

    所述旋轉軸頂部與基片托盤上還包括一個同步運動配合結構，所述同步運動配合結構包括一個突出部和一個與之對應配合連接的凹陷部，所述突出部和所述凹陷部分別設置在所述旋轉軸的頂部和所述基片托盤的下表面上或相反設置；

    其中，當所述基片托盤受其與所述頂部之間的摩擦力驅動而圍繞所述旋轉軸的中心軸線轉動時，所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盤和所述旋轉軸同步轉動；

    所述旋轉軸的頂部包括一連接頭，所述連接頭包括一上表面和位于所述上表面下方的一外周面，所述突出部設置于所述連接頭的上表面上或所述外周面上。

    中微在修改權利要求時候并不是直接加上了標藍色的這句話，無效中修改權利要求不允許加內容。實際上，中微是將原獨權1刪除，保留了從權2，這樣從權2就變成了獨權1。此種對權利要求的修改方式是在無效程序中準許的修改方式之一。

    Veeco對中微的修改方式無異議，但繼續以獨權1權少必要技術特征、說明書不支持、無新穎性、無創造性的理由申請無效。

    我們接下來就結合復審決定書來分析一下，看看這幾個理由是否充分，是否能說服復審委。

    1.權利要求1缺少必要技術特征。Veeco認為，本專利要解決的技術問題之一是實現旋轉過程中基片托盤的自平衡，為了解決該問題，本專利至少采用了兩個技術手段，即在旋轉軸的連接頭和基片托盤的接觸區域下方存在足夠的間隙S1，以及在突出部和凹陷部之間存在間隙S2并且該間隙不小于0.01mm、小于5mm。但本專利獨立權利要求1-3和10中并沒有記載上述技術特征，因此不能解決自平衡的技術問題，不符合專利法實施細則第20條第2款的規定。Veeco的觀點集中在連接頭和接觸區域的間隙的問題，即上圖中筆者描紅的部分。但是合議組的看法是“根據說明書第0036段的記載，如果間隙S2設計得太小，會由于熱脹冷縮導致基片托盤無法取出，而設計得太大又不能防止主軸和基片托盤發生相對運動。因此，間隙S2的設計目的并非用于實現自平衡，而且本領域技術人員也通常會選取間隙S2存在的技術手段。因此，請求人關于獨立權利要求1-3和10缺少必要技術特征、不符合專利法實施細則第20條第2款規定的理由不能成立。”。中微修改之后的權利要求1描述的技術方案中，并未對兩個部件的間隙作出描述。如上文筆者的討論，技術方案實質上是摩擦傳動和接觸傳動相結合，在突出部過高的情況下，如果和凹陷部提前接觸，就轉化成純接觸傳動；如果突出部過低，低于圖中藍色線所示的平面，就轉化成了純摩擦傳動。在突出部和凹陷部之間存在間隙，此間隙既包含水平方向的間隙，又包含垂直方向的間隙，間隙的作用并不僅僅是為了防止熱脹冷縮，也涉及了自平衡的問題。因此，對于獨權1的技術方案，突出部和凹陷部的間隙屬于必要技術特征。筆者認為，Veeco這個理由找的還是很準確的，但是存在一點點瑕疵，對于水平間隙和垂直間隙沒有做出區別論述。對復審委的意見，筆者持保留態度。

    2.  關于“說明書支持”。《專利審查指南》中對“說明書支持”的表述為“如果權利要求的概括使所屬技術領域的技術人員有理由懷疑該上位概括或并列概括所包含的一種或多種下位概念或選擇方式不能解決發明或者實用新型所要解決的技術問題，并達到相同的技術效果，則應當認為該權利要求沒有得到說明書的支持。”Veeco認為：權利要求1中包含了旋轉軸連接頭和基片托盤接觸區域下方以及突出部與凹陷部之間不存在間隙的技術方案，該方案無法解決本專利所要解決的自平衡的技術問題，因此得不到說明書支持。對此，合議組認為：“如前所述，旋轉軸連接頭和基片托盤接觸區下方的間隙屬于優選方案，該間隙的存在與否并不影響基片托盤自平衡的實現；突出部和凹陷部之間的間隙只是為了防止由于熱脹冷縮導致基片托盤無法取出，并不涉及旋轉過程中基片托盤的自平衡問題，因此不會導致權利要求得不到說明書的支持”。根據上文關于必要技術特征部分的討論，筆者認為Veeco的理由還是與必要技術特征的關系更密切。

    3.  關于新穎性，Veeco一口氣搬出來三個證據，但是權利要求與這三個證據相比，均具有區別技術特征。在實用新型專利的復審程序中，評價新穎性的標準與發明專利實質審查時候的新穎性評價標準沒有任何區別。因此，Veeco提供的證據無法破壞獨權1的新穎性。復審委的意見正確。

    4.  關于創造性，這里首先要介紹實用新型專利無效中創造性的審查標準，然后以此標準考察Veeco的方案。

    《專利審查指南》中規定如下：發明的創造性，是指與現有技術相比，該發明具有突出的實質性特點和顯著的進步；實用新型的創造性，是指與現有技術相比，該實用新型具有實質性特點和進步。因此，實用新型專利創造性的標準應當低于發明專利創造性的標準。

    （１）現有技術的領域

    對于發明專利而言，不僅要考慮該發明專利所屬的技術領域，還要考慮其相近或者相關的技術領域，以及該發明所要解決的技術問題能夠促使本領域的技術人員到其中去尋找技術手段的其他技術領域。對于實用新型專利而言，一般著重于考慮該實用新型專利所屬的技術領域。但是現有技術中給出明確的啟示，例如現有技術中有明確的記載，促使本領域的技術人員到相近或者相關的技術領域尋找有關技術手段的，可以考慮其相近或者相關的技術領域。

    （２）現有技術的數量

    對于發明專利而言，可以引用一項、兩項或者多項現有技術評價其創造性。對于實用新型專利而言，一般情況下可以引用一項或者兩項現有技術評價其創造性，對于由現有技術通過“簡單的疊加”而成的實用新型專利，可以根據情況引用多項現有技術評價其創造性。

    本無效案件中，Veeco選取了四組結合證據來進行評價。復審委的結論是“……上述證據中各裝置的作用均是通過接觸作用力保持主軸和托盤同步運動，接觸作用力在托盤的運動過程中必須時刻發揮作用，托盤和主軸之間不再需要摩擦力作用，因此這些裝置均為接觸傳動裝置；而本專利的同步運動配合結構其目的僅在于確保主軸和托盤不發生相對轉動，在托盤隨主軸的運動過程中，主要由摩擦傳動發揮作用，因此本專利的同步運動配合結構并不屬于接觸傳動裝置，因此上述證據也無法給出將摩擦傳動與同步運動配合結構相結合的技術啟示。此外，目前也沒有證據顯示這種結合方式是本領域的公知常識。因此，請求人關于權利要求1相對于證據1與證據2的結合、證據1與證據6的結合、證據4與證據6的結合或者證據6與公知常識的結合不具備創造性的理由均不能成立。……”如前文所述，本專利的發明點實質上是“摩擦傳動和接觸傳動相結合”。此種結合方式在MOCVD領域很大可能性是中微的獨創；在其他機械領域是否已經存在，筆者不敢妄言。但是，根據實用新型專利無效過程中創造性的審查標準，即使在其他領域有類似應用，只有滿足了“現有技術給出明確的技術啟示的情況下”，才能作為證據使用；否則，很有可能不被復審委所接受。Veeco在選擇對比文件的時候，可供選擇的對比文件實質上是受到了極大的限制。

    因此，實用新型專利看起來容易被無效，實際操作起來難度比起發明有過之而無不及。

    簡要結論和啟示：

    （1）Veeco選擇的無效策略沒有太大的問題，復審委做出的“權利要求不缺乏必要技術特征、以說明書為依據”的結論欠妥，Veeco尚有去知識產權法院挑戰復審委的余地。

    （2）實用新型專利授權容易，在無效程序中又能夠享受到比發明專利更多的優待。對于迭代速度快的產品來說，使用實用新型專利來進行保護也是一個非常好的選擇。

    （3）中國企業的原始創新的研發成果不容小覷，Veeco在實施與本專利相同技術前，專利技術盡職調查工作未做足，才造成如此嚴重后果。

    （4）面對技術抄襲者，即使對方是國際巨頭，哪怕武器僅僅是一個實用新型專利，也應當勇敢的去維權。萬一，說的是萬一，實用新型專利沒有被無效呢？

責編：樹懶