歐陽鐘燦院士：無屏幕和三維是下一代顯示技術(shù)方向

文章轉(zhuǎn)載自： 中國電子報(bào)

“下一代顯示技術(shù)新方向不斷涌現(xiàn)，光場顯示、激光全息顯示等變革性技術(shù)將推動三維立體顯示發(fā)展，全球處于產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用前的研發(fā)階段?！敝袊茖W(xué)院院士、中國科學(xué)院理論物理研究所戰(zhàn)略發(fā)展委員會主任歐陽鐘燦在2020中國(上海)國際顯示產(chǎn)業(yè)高峰論壇(簡稱DIC Forum)發(fā)表演講時(shí)表示。

縱觀全球新型顯示技術(shù)發(fā)展態(tài)勢，TFT-LCD技術(shù)是目前各類顯示技術(shù)中最成熟、產(chǎn)業(yè)鏈最完整的主流技術(shù)。近年來TFT-LCD技術(shù)飛速發(fā)展，無論是對比度、分辨率、色域都得到了極大的突破，多項(xiàng)顯示參數(shù)接近人眼的視覺極限。

OLED技術(shù)方面，目前全球已量產(chǎn)的OLED顯示技術(shù)均為蒸鍍OLED顯示技術(shù)，技術(shù)最為強(qiáng)大的是韓國，其中大尺寸蒸鍍OLED全球僅LGD一家。柔性AMOLED技術(shù)最大的技術(shù)難點(diǎn)是防水、防氧封裝，大尺寸不能代替沒有防水、防氧的液晶顯示器。

印刷顯示技術(shù)中，印刷OLED目前日本JOLED已實(shí)現(xiàn)少量出貨。歐陽鐘燦院士表示，我國與韓國并跑，未來2到3年有望投入量產(chǎn)。印刷QLED全球尚未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，我國的TCL華星、京東方以及韓國三星顯示、LGD均在積極研發(fā)，未來5年有望量產(chǎn)。

量子點(diǎn)顯示技術(shù)目前開發(fā)的重點(diǎn)圍繞于面向下一代的量子點(diǎn)電致發(fā)光顯示極速(QLED)。據(jù)歐陽鐘燦院士介紹，京東方集團(tuán)中央研究院關(guān)于高分辨率、全彩量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED InP-QLE)的研究取得重大突破，實(shí)現(xiàn)了分辨率500ppi、色域114%，外量子效率13.8%。

激光顯示技術(shù)路線主要分為激光熒光粉光源和三基色純激光光源，熒光粉光源主要特點(diǎn)在于結(jié)構(gòu)簡單、光效低、色域小、壽命短，三基色激光顯示的發(fā)展方向主要為大色域、高光效、高亮度、長壽命。

Micro LED技術(shù)，其晶片表面必須制作成如同LED顯示器般至陣列結(jié)構(gòu)，且每一個(gè)點(diǎn)像素必須可控制、單獨(dú)驅(qū)動點(diǎn)亮。

歐陽鐘燦院士強(qiáng)調(diào)，未來顯示技術(shù)發(fā)展方向主要是兩個(gè)，一是基于空間三維物體重構(gòu)的光場顯示技術(shù)，主要包括投影陣列光場顯示、光場掃描顯示、集成成像光場顯示、平板光場顯示、近眼光場顯示和懸浮光場顯示以及LED曲面大屏顯示;二是全息投影顯示，把圖像的低頻部分(占圖像的大部分光能)用全息技術(shù)來投影，而高頻部分(代表圖像的細(xì)節(jié)部分，但只占整個(gè)圖像光能的小部分)，則用傳統(tǒng)的“像素到像素”方式來投影。這種做法既有效避開空間光調(diào)制器分辨率較低的技術(shù)難題，又能大大提高光能的利用效率。利用這種雜化全齊微投影技術(shù)，光效率有望達(dá)到100流明/瓦，比當(dāng)前的投影技術(shù)提高近一個(gè)數(shù)量級，能為解決當(dāng)前移動投影儀光效率低下的難題提供一個(gè)非常有效的方案。

目前，全球平板顯示產(chǎn)業(yè)的國際競爭日益激烈，日本、韓國等顯示產(chǎn)業(yè)大國陸續(xù)關(guān)閉并轉(zhuǎn)移LCD產(chǎn)線并加緊推動OLED、QLED等新型顯示技術(shù)，搶占產(chǎn)業(yè)發(fā)展先機(jī)。與此同時(shí)，下一代顯示技術(shù)新方向不斷涌現(xiàn)，以印刷顯示、激光顯示、Micro LED顯示為主的下一代顯示方向逐漸明確，光場顯示、激光全息顯示等變革性技術(shù)將推動三維立體顯示發(fā)展，全球處于產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用前的研發(fā)階段。