研究人員在量子點圖案化技術方面取得進展
摘要:近日,廣東省科學院半導體研究所新型顯示團隊在量子點圖案化技術方面取得進展,他們利用RM-PE-TP圖案化技術制備出分辨率最 高為669 ppi、薄膜厚度最 高達19.74 μm的圖案化量子點聚合物薄膜。相關成果發(fā)表于《納米尺度》。
近日,廣東省科學院半導體研究所新型顯示團隊在量子點圖案化技術方面取得進展,他們利用RM-PE-TP圖案化技術制備出分辨率最 高為669 ppi、薄膜厚度最 高達19.74 μm的圖案化量子點聚合物薄膜。相關成果發(fā)表于《納米尺度》。
論文第 一作者、廣東省科學院半導體研究所博士鄒勝晗表示,近年來,隨著通信技術的迅速發(fā)展以及人們對顯示色彩和實用性的追求,顯示技術呈現(xiàn)多元化的發(fā)展。量子點作為一種在色純度、亮度、色域、量子效率等方面具有巨大優(yōu)勢的光轉換材料受到了廣泛的關注。然而,現(xiàn)有的量子點圖案化技術對于制備高厚度和高分辨率的量子點光轉換薄膜仍具有一定的挑戰(zhàn)性。
研究人員在國家自然科學基金青年科學基金項目、國家重點研究計劃項目等項目的支持下,開發(fā)了一種簡單且具有良好兼容性的圖案化方法來制備厚度超過10 μm的量子點光轉換薄膜,該方法結合了復制成型、等離子蝕刻和轉印三種工藝的優(yōu)勢,簡稱為RM-PE-TP圖案化技術。該技術使用到的量子點聚合物材料制備簡單易得,很好地避免了在其他圖案化方法中所必需的復雜的量子點表面改性和用料組成等問題。
此外,復制成型的工藝十分有利于得到厚度超過10 μm以上的量子點薄膜,且量子點陣列的分辨率和厚度也易于調節(jié)。總的來說,整個圖案化方法對量子點材料的光學性能基本沒有損傷,便于多色量子點圖案化的集成,甚至可通過單色集成進一步提高量子點圖案的分辨率。
基于RM-PE-TP圖案化技術,研究人員最終制備出分辨率最 高為669 ppi、薄膜厚度最 高達19.74 μm的圖案化量子點聚合物薄膜,并在柔性襯底上得到了大面積高分辨率的量子點厚膜,說明該技術在大規(guī)模柔性量子點圖案化集成方面具有巨大的應用潛力。
論文通訊作者、廣東省科學院半導體研究所教授龔政表示,該工作還初步驗證了將上述量子點聚合物薄膜作為光轉換層簡單集成到藍光micro-LED器件來實現(xiàn)光轉換應用的可行性,并發(fā)現(xiàn)增加量子點薄膜的厚度可以提高光轉換的效率。
來源:科學網
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