北方華創“半導體工藝設備及清洗方法”專利獲授權
類別：行業新聞發表于：2023-05-17 10:32
摘要：北京北方華創微電子裝備有限公司“半導體工藝設備及清洗方法”獲專利授權，授權公告日為5月16日，授權公告號為CN113857117B。
北京北方華創微電子裝備有限公司“半導體工藝設備及清洗方法”獲專利授權，授權公告日為5月16日，授權公告號為CN113857117B。
專利摘要顯示，本發明公開一種半導體工藝設備及清洗方法，所述半導體工藝設備包括工藝槽、噴淋部和注液管；所述噴淋部（200）用于向所述工藝槽（100）內噴淋第 一預設溫度的清洗液，所述第 一預設溫度與所述工藝槽（100）的溫度的溫度差小于或等于第 一預設閾值；所述注液管（300）與所述工藝槽（100）相連通，所述注液管（300）用于向所述工藝槽（100）內注入第二預設溫度的清洗液，所述第二預設溫度與所述工藝槽（100）的溫度的溫度差小于或等于第二預設閾值。
據悉，該方案能夠解決工藝槽破裂的問題。
來源：集微網
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