中微公司發布2023半年報業績預告，預計收入25.27億元，同比增長28%；扣非歸母凈利潤5-5.4億元，同比增長13.5%-22.5%。公司刻蝕設備市占率不斷提升，23Q2收入同環比均實現增長。

   23H1收入和業績同比穩健增長，23Q2營收環比實現增長。23H1預計收入25.27億元，同比增長28%；歸母凈利潤9.8-10.3億元，同比增長109.5%-120.2%；扣非歸母凈利潤5-5.4億元，同比增長13.5%-22.5%；23Q2收入預計13億元，同比增長27.5%，環比增長6.6%；歸母凈利潤7.05-7.55億元，同比增長101%-115%，環比增長156%-174%；扣非歸母凈利潤2.72-3.12億元，同比增長7%-22.8%，環比增長19.4%-37%，非經常收益主要系23Q2出售部分拓荊股票帶來的4.06億元收益；單季扣非凈利率20.9%，同比約下降2.5pcts，環比增長4pcts。

   23Q2刻蝕設備收入穩健增長，MOCVD設備收入同環比承壓。從收入拆分來看，①刻蝕設備：23H1收入17.22億元，同比增長32.5%，主要系市占率不斷提高；23Q2收入9.08億元，同比增長55.2%，環比增長11.5%；②MOCVD設備：23H1收入2.99億元，同比增長24.1%；23Q2 收入1.32億元，同比下降33.7%，環比下降21%；③備品備件及服務收入5.05億元，同比增長17.1%。

   日本發布半導體設備出口管制法規，刻蝕設備國產化率有望持續加速。日本政府修正法案于5月23日公布，預計7月23日正式實施，對光刻、刻蝕、沉積、清洗、熱處理、測試共六大類設備進行限制，對刻蝕和薄膜沉積設備限制較多，主要針對刻蝕深寬比、選擇比進行限制，以及對金屬沉積、介質薄膜的介電常數/反應溫度/介質材料等進行限制；日本TEL等在刻蝕領域具備一定市場份額，根據中國海關，2022年中國大陸等離子刻蝕設備進口金額37.5億美元，日本占比31%。因此，我們認為刻蝕設備國產化進程有望加速，公司有望在國內先進邏輯和存儲產線獲取可觀市場份額。

   大馬士革和極高深寬比工藝刻蝕機臺驗證順利，持續向LPCVD、外延、檢測等領域延伸。針對大馬士革工藝，公司開發了可調節電極間距的刻蝕機，同時滿足通孔和溝槽刻蝕的不同工藝要求；針對極高深寬比工藝，公司自主開發極高深寬比刻蝕機，使用400KHz取代2MHz作為偏壓射頻源，從而獲得更高的離子入射能量和準直性，目前兩款機臺均驗證順利；在薄膜領域，公司于5月發布自研12英寸LPCVD設備，用于先進邏輯器件、DRAM和3DNAND中接觸孔以及金屬鎢線等的填充，目前順利導入客戶端進行生產核準；在外延領域，公司正開發EPI外延設備，面向28nm以下邏輯、存儲和功率器件，目前研發順利，進入樣機制造和調試階段；在檢測領域，上海睿勵主營工藝檢測設備，中微公司此前持股34.75%，為第 一大股東。2023年4月3日，大基金將持有的上海睿勵6.76%的股權在上交所掛牌交易，中微于4月28日競購成功，加強向檢測設備的產業鏈延伸。