中微公司：2023上半年預(yù)計收入25.27億元，同比增長28%

   中微公司發(fā)布2023半年報業(yè)績預(yù)告，預(yù)計收入25.27億元，同比增長28%；扣非歸母凈利潤5-5.4億元，同比增長13.5%-22.5%。公司刻蝕設(shè)備市占率不斷提升，23Q2收入同環(huán)比均實現(xiàn)增長。

   23H1收入和業(yè)績同比穩(wěn)健增長，23Q2營收環(huán)比實現(xiàn)增長。23H1預(yù)計收入25.27億元，同比增長28%；歸母凈利潤9.8-10.3億元，同比增長109.5%-120.2%；扣非歸母凈利潤5-5.4億元，同比增長13.5%-22.5%；23Q2收入預(yù)計13億元，同比增長27.5%，環(huán)比增長6.6%；歸母凈利潤7.05-7.55億元，同比增長101%-115%，環(huán)比增長156%-174%；扣非歸母凈利潤2.72-3.12億元，同比增長7%-22.8%，環(huán)比增長19.4%-37%，非經(jīng)常收益主要系23Q2出售部分拓荊股票帶來的4.06億元收益；單季扣非凈利率20.9%，同比約下降2.5pcts，環(huán)比增長4pcts。

   23Q2刻蝕設(shè)備收入穩(wěn)健增長，MOCVD設(shè)備收入同環(huán)比承壓。從收入拆分來看，①刻蝕設(shè)備：23H1收入17.22億元，同比增長32.5%，主要系市占率不斷提高；23Q2收入9.08億元，同比增長55.2%，環(huán)比增長11.5%；②MOCVD設(shè)備：23H1收入2.99億元，同比增長24.1%；23Q2 收入1.32億元，同比下降33.7%，環(huán)比下降21%；③備品備件及服務(wù)收入5.05億元，同比增長17.1%。

   日本發(fā)布半導(dǎo)體設(shè)備出口管制法規(guī)，刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化率有望持續(xù)加速。日本政府修正法案于5月23日公布，預(yù)計7月23日正式實施，對光刻、刻蝕、沉積、清洗、熱處理、測試共六大類設(shè)備進(jìn)行限制，對刻蝕和薄膜沉積設(shè)備限制較多，主要針對刻蝕深寬比、選擇比進(jìn)行限制，以及對金屬沉積、介質(zhì)薄膜的介電常數(shù)/反應(yīng)溫度/介質(zhì)材料等進(jìn)行限制；日本TEL等在刻蝕領(lǐng)域具備一定市場份額，根據(jù)中國海關(guān)，2022年中國大陸等離子刻蝕設(shè)備進(jìn)口金額37.5億美元，日本占比31%。因此，我們認(rèn)為刻蝕設(shè)備國產(chǎn)化進(jìn)程有望加速，公司有望在國內(nèi)先進(jìn)邏輯和存儲產(chǎn)線獲取可觀市場份額。

   大馬士革和極高深寬比工藝刻蝕機(jī)臺驗證順利，持續(xù)向LPCVD、外延、檢測等領(lǐng)域延伸。針對大馬士革工藝，公司開發(fā)了可調(diào)節(jié)電極間距的刻蝕機(jī)，同時滿足通孔和溝槽刻蝕的不同工藝要求；針對極高深寬比工藝，公司自主開發(fā)極高深寬比刻蝕機(jī)，使用400KHz取代2MHz作為偏壓射頻源，從而獲得更高的離子入射能量和準(zhǔn)直性，目前兩款機(jī)臺均驗證順利；在薄膜領(lǐng)域，公司于5月發(fā)布自研12英寸LPCVD設(shè)備，用于先進(jìn)邏輯器件、DRAM和3DNAND中接觸孔以及金屬鎢線等的填充，目前順利導(dǎo)入客戶端進(jìn)行生產(chǎn)核準(zhǔn)；在外延領(lǐng)域，公司正開發(fā)EPI外延設(shè)備，面向28nm以下邏輯、存儲和功率器件，目前研發(fā)順利，進(jìn)入樣機(jī)制造和調(diào)試階段；在檢測領(lǐng)域，上海睿勵主營工藝檢測設(shè)備，中微公司此前持股34.75%，為第 一大股東。2023年4月3日，大基金將持有的上海睿勵6.76%的股權(quán)在上交所掛牌交易，中微于4月28日競購成功，加強(qiáng)向檢測設(shè)備的產(chǎn)業(yè)鏈延伸。